本书在介绍光刻技术应用上，作者涵盖了全面又丰富的内容，在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，本书采用了完整但不繁琐的方法，增加了该书的可读性。在论述光刻技术的共性内容后，该书专门开辟章节，较为详细地介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。该书内容全面、完整、详实、新颖，集这四个特点于一书，目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者30多年光刻领域科研和教学之精华，对于从事芯片领域的专业技术人员，这是一本手册性的内容丰富的参考书。